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红外测温仪在化学气相沉积(CVD)测温应用
发布时间:2023-05-31 09:07:46

红外测温仪在化学气相沉积(CVD)应用

红外测温仪在化学气相沉积(CVD) 应用西安固泰传感器红外测温仪可以在以下设备中配套测温使用,比如碳化硅生长炉测温、单晶炉测温、氧化扩散炉测温、真空炉测温;MOCVD金属有机化学气相沉积(Metal-Organic Chemical Vapour Deposition)是在基板上生长半导体薄膜。

PECVD等离子增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是指等离子体增强化学的气相沉积。

CVD化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)是指高温下的气相反应。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)\高密度等离子体化学气相淀积(HDP CVD) \微波等离子化学气相沉积(MPCVD) \微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-MPCVD)\真空化学气相沉积(UHV/CVD) \热化学气相沉积(TCVD) \高温化学气相沉积(HTCVD) \金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)\激光诱导化学气相沉积(LCVD)等。

PVD物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的方法,物理气相沉积是主要的表面处理之一。物理气相沉积可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

ALD原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。以上工况的测温具体选型欢迎联系我们。

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