应用领域：
碳纳米管研制CVD真空管式炉广泛应用于高、中、低温CVD工艺，例如碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等，也可以适用于金属材料的扩散焊接及真空或保护气氛下的热处理

主要特点：
1.碳纳米管研制CVD真空管式炉采用高纯石英管或者刚玉管作为内炉膛，可拆卸式的三面密封方式，具有良好的洁净度和真空度
2.碳纳米管研制CVD真空管式炉的耐火、保温材料全部采用先进的轻质纤维制品，整机质量轻、能耗低
3.碳纳米管研制CVD真空管式炉的加热元件采用U型硅钼棒，或原装进口电阻丝
4.碳纳米管研制CVD真空管式炉的温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，温度控制具有良好的稳定性、重复性

技术指标：

设备型号	CVD(D)-06/60/3	CVD(Z)-06/30/1	CVD(G)-07/50/2	CVD(G)-09/50/1
*高温度	1050℃	1350℃	1650℃/1000℃	1650℃
使用温度	RT-1000℃	850-1300℃	1000-1600℃	1000-1600℃
控温精度	±1.5℃	±1.5℃	±1.5℃	±1.5℃
温区个数	3	1	2	1
加热区长度	600mm	300mm	500mm	500mm
炉管材料	石英管	刚玉管	刚玉管	刚玉管
炉管尺寸	60x1400mm	60x1000mm	70x1450mm	90x1450mm
发热元件	进口电阻丝	电阻丝/硅碳棒	硅钼棒、电阻丝	硅钼棒
*大装机功率	4.5KW	3KW/8KW	8KW	10KW

设备照片：

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