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Annealsys快速退火炉/快速热处理设备AS-One
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北京
北京朗铭润德光电科技有限公司
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更多信息详见官网:www.longsun.asia

一、设备介绍
不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉)

具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本

 

二、性能和特征

  • 可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆
  • 可适用大范围类型的基片:硅和化合物半导体晶圆,GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆,多晶硅晶圆,玻璃,金属,高分子聚合物,石墨和碳化硅托盘等等。
  • 设备应用具有:硒化、硫化、接触退火,注入退火,RTO (快速热氧化) ,RTN (快速热氮化) ,硅平滑,扩散,致密化和结晶化,石墨烯CVD,碳纳米管等。
  • 不锈钢水冷腔壁技术高工艺复现性超洁净及无污染环境
  • 高冷却速率,低记忆效应
  • 具有真空能力,可选配分子泵
  • 温度控制:高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
  • 边缘高温计视口,确保用于化合物半导体和小型样品
  • 基片托的温度控制

 

三、快速退火炉的具体参数

  • 温度范围: 室温至1250°C(AS-One100)、室温至1450°C(AS-One100HT)、室温至1200°C(AS-One150)、室温至1300°C(AS-One150HT)、
  • 升温速率:可达200°C/s(AS-One100),可达150°C/s(AS-One150)
  • 特殊配置下冷却速率达 100°C/s(选配快速冷却装置)
  • 可配5条带质量流量控制器(MFC)的工艺气路
  • 标配一条吹扫气路
  • 具有真空能力,配备干泵,可选配分子泵 
指标特点 AS-One 100 AS-One 150
腔室材质 不锈钢水冷壁腔室 不锈钢水冷壁腔室
衬底直径Max 100mm4” 150mm6”
温度范围(标准)
温度范围(高温版本)
RT to 1250°C
RT to 1450°C
RT to 1200°C
RT to 1300°C
温度重复性 ± 1°C ± 1°C
升温速率 0.1°C to 200°C/s 0.1°C to 150°C/s
灯数量/Max功率 12 / 30 kW 18 / 34 kW
温度控制 快速数字PID 快速数字PID
工艺气体管路 5 5
真空范围Roughing
真空范围Turbo
10-3 Torr
10-6 Torr
10-3 Torr
10-6 Torr
应用 注入退火、欧姆接触退火(III-V and SiC)Si碳化、RTORTN、致密和结晶、硒化、石墨烯CVD……
装片方式 手动 手动
加工定制:
品牌:Annealsys
型号:AS-One
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