SiO2标准粒子

纳米二氧化硅™尺寸标准
 
MSP Corporation 的 NanoSilica™Size Standards 是 SiO2颗粒的浓缩水悬浮液，具有高度均匀的尺寸分布。
这些粒径标准目前提供的标称尺寸范围为 15 至 200 nm，非常适合为下一代晶圆和光掩模检测系统生产高质量校准标准。
 
虽然 MSP 23000NPT 系列和 2300G3 系列粒子沉积系统为表面缺陷校准标准的生产提供了*佳结果，但较旧的 MSP 系统和其他制造商的系统也适用于纳米二氧化硅尺寸标准。
特征
+ 极其均匀的尺寸分布
我们的纳米二氧化硅尺寸标准采用获得专利的 SiO2合成工艺开发，其尺寸分布比市售的 PSL 球更窄。
+ 使用 SI 可追溯性测量的峰直径
允许产量提高和计量小组根据 ISO 9000 标准和 SEMI 指南建立其检查和缺陷审查方法的可追溯性。
+ 受到强烈 DUV 辐射时稳定
MSP 的 SiO2颗粒在暴露于 DUV 辐射时不会降解，这与 PSL 球体不同，PSL 球体的尺寸会减小。
+ 易于使用
NanoSilica 颗粒悬浮液在滴管瓶中提供，以便在您的应用中混合具有适当数量浓度的悬浮液时使用方便。
+ 高粒子浓度
一些应用需要高浓度。 MSP 的颗粒浓度是业内*高的之一。
 
+ 轻松辨别模态（峰值）直径
+ 避免由于平均和峰值直径值之间的差异而导致的差异
+ 制备适用于效率相对较高或较低的气溶胶产生装置的稀释悬浮液
+ 为*先进的检测工具创建持久的校准标准
+ 消耗更少的材料；存钱
+ 随附校准和可追溯性证书以及带有处理和处置说明的安全数据表 (SDS)
 

规格

  
NanoSilica™ 微粒子标准溶液是由MSP Corporation制作的高度均匀尺寸SiO2微粒子浓缩水溶液，微粒子尺寸从18nm到200nm都可选择，是市面上*理想、高质量的校正标准，适用于*新一代的晶圆表面污染/缺陷检查系统及光罩检查系统。

*先进的半导体检查技术已经发展到小于30nm，以往使用Polystyrene latex (PSL)球形化粒子即可做晶圆表面污染/缺陷检查系统及光罩检查系统的校正，但新一代的检查系统使用到Deep ultraviolet (DUV) or Extreme ultraviolet (EUV)才能检查小于20nm的污染或缺陷，当UV光重复打在PSL球形化粒子上，将影响到PSL球形化粒子的质量; 由于SiO2微粒子在DUV及EUV的照射下拥有稳定的质量，因此SiO2微粒子是*佳的替代产品。

NanoSilica™ 微粒子标准溶液是使用有专利的SiO2合成技术，可以做到如PSL球形化粒子一样的尺寸分布，从目前*小的微粒子尺寸来看，NanoSilica™ 微粒子标准溶液是尺寸*均匀，适合做尺寸大小峰值的量测的工具。

NIST-traceable NanoSilica™ 微粒子标准溶液是MSP Corporation透过National Institute of Standards and Technology (NIST)追溯到标准单位的产品，加上ISO 9000与SEMI的认证，让良率提升及表面检查和缺陷评估有所依据。

NanoSilica™ 微粒子标准溶液使用15-mL滴定，让使用者操作更方便。每一瓶溶液的卷标皆标示产品编号、生产编号、微粒子尺寸峰值、尺寸分布半高宽及有效期限，而且提供NIST-traceable证明书与Material Safety Data Sheet (MSDS)说明书。

产品优势
•尺寸大小分布均匀
•NIST traceability 的尺寸大小
•DUV及EUV的照射下拥有稳定的质量
•高浓缩度微粒子悬浮溶液
 
产品效益
•易于微粒子撒粒系统、晶圆表面污染/缺陷检查系统或各类分析仪器侦测与量测尺寸峰值
•可避免平均尺寸与尺寸峰值的差异性
•适合气胶产生设备使用
•提供耐久校正标准给先进的检测设备使用
•省钱而且耗用量少