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Micro Resist显影液ma~D332S
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福建厦门
厦门良厦贸易有限公司
2年 | 指数:50 | 工商已认证
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  • 产品参数
品牌 产地 型号 特性 应用 对生产力的影响
Futurrex 美国 RD3 碱性水溶液      
     光胶图案显影

     Futurrex临时粘层、
     保护层和平坦化层的
     去除
 
    一种显影液可同时应用于

    正胶和负胶在去除PC3系列

    平坦化层时作为去除剂
RD6
Micro Resist 德国 ma~D332S    避免接触酸
   和氧化剂
   
     用于半导体芯片
     或微纳结构制作
    
    用于光刻胶的显影
ma-D332
mr~Dev600
 
去胶液 1
 
品牌 产地 型号 性质 应用 对生产力的影响
Futurrex 美国 PR3 液体     去除加工完成后的光胶图案     缩短去除光胶的时间
PR4
PR41
PR5
Micro Resist 德国 mr-Rem 660
型号:ma~D332S
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