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| 钌蚀刻液 | RU-44 |
钌蚀刻液RU-44是硝酸铈铵/ 硝酸基蚀刻液，用于所有类型的蒸镀钌薄膜的蚀刻。蚀刻速度由基板中钌密度和工艺条件决定。通常室温下蚀刻时间15-55秒。这种蚀刻液也有添加了表面活性剂的钌蚀刻液RU-44S供应。钌蚀刻液RU-44适合于亚微米光刻应用。如果需要快速蚀刻，铬-陶瓷蚀刻液TFE可以使用 |
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| 铝蚀刻液 | TYPE-A |
标准铝蚀刻液用于硅器件和其他微电子应用 |
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| TYPE-D |
标准铝蚀刻液用于砷化镓、砷和磷化镓器件以及镍铬电阻上铝金属化膜的制作 |
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| TYPE-F |
铝蚀刻液F型是一种稳定的蚀刻液，可用于在硅器件上及集成电路应用中蚀刻铝或铝-硅金属化膜。铝蚀刻液F型具有独特的性质可以很容易地克服许多在铝蚀刻时遇到的问题如金属残留等 |
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| 印刷电路板铜蚀刻液 | TYPE-100 |
用于浸没式蚀刻 |
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| TYPE-200 |
用于喷雾蚀刻技术 |
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| APS-100 |
用于薄膜和印刷电路板 |
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| TYPE-49-1 |
铜蚀刻液49-1是一种高纯的、可控的蚀刻液，用于特殊微电子蚀刻如砷化镓或铜。铜蚀刻液BTP可进行快速蚀刻，同时保持了镍的相适性 |
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| 型号： | TYPE-D |
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