钯炭Pd/C负载型加氢精制贵金属催化剂大小型研磨分散机是将金属钯负载到活性炭里形成负载型加氢精制催化剂，用于精制处理对苯二甲酸原料，生产精制对苯二甲酸。钯炭催化剂是将金属钯负载到活性炭里形成负载型加氢精制催化剂，用于精制处理对苯二甲酸原料，生产精制对苯二甲酸。钯炭催化剂已经先后在不同工艺的PTA装量。

钯炭催化剂是银白色金属，较软，有良好的延展性和可塑性，能锻造，压延和拉丝。块状金属钯能吸收大量氢气，使体积显著胀大，变脆乃至破裂成碎片。

钯含量	0.1%－20%
比表面积	≥950㎡/g
金属表面积	90－105㎡/g
平均粒径	3－8nm
杂质	≤0.15%
颗粒强度	≥90%
含水率	1%－50%
灰份	≤3%
主要特点	选择性好活性高、寿命长，同体系可循环几十次以上；可在常温压下反应；可回收提纯再加工。
应用领域	化工、医药和医药中间体、染发剂、食品添加剂、香料、农药、化妆品、高分子改性材料、液晶材料等领域的加氢还原反应。

研磨分散机工作原理：研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的gao速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎，da到物料超细粉碎及乳化的效果。

研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。 

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第er级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，te别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征dou能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出#终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

 

研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	30	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到#大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和#终产品的要求。
3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，bi须提供准确的参数，以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数yi提供的实物为准。
5 本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。