妥布霉素地塞米松滴眼液纳米高剪切胶体磨研磨机为1.对*上*皮质*素有反应的眼科***变及眼部表面的细*感*或有感*危*的情况；2.眼用*素用于眼*、球*膜、角*、眼*前段组织及一些可接受*素潜在危*性的感*性结*炎等炎性**，可以减轻水*和炎*反应。它们也适用于慢*前葡*膜*、化学*、放*性、*伤性及异物穿*性**损伤；3.有抗感*染成分的复方制剂可以应用于发生眼*感*危险大的部位和预计有大量细*存在于眼部的潜在危险时；特有的抗*染药物对一些常见的眼部*菌和*原*有*：葡萄*菌：金黄色葡*球菌及表皮**球*（凝***性及*性），包括耐青**株。链球*：A组β溶*性链**、一些非溶*性链**和一些肺**球菌。绿*杆*、大肠杆*、肺*克雷伯氏*、产气*杆*、奇异变形**、摩氏*根氏*、多数普通变形杆*株、流*嗜*杆*、腔*莫*氏*、埃氏*血*、醋*钙不动杆*以及一些奈瑟*属。

胶体磨工作原理：chao高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的gao速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被du te 地乳化、分散和粉碎，da到物料chao细粉碎及乳化的效果。
        

       根据一些行业的te殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000X速胶体磨，转子的线速度可以da到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。

       chaoX速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

       CMS2000的线速度很高，剪切间隙fei常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

     三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款X速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度da到3bei以上,X大的转速可以da到14000RPM。所以可以da到更好的分散湿磨效果。

 

胶体磨	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMS2000/4	700	14000	40	4	DN25/DN15
CMS 2000/5	4,000	10,500	40	11	DN40/DN32
CMS 2000/10	10,000	7,300	40	22	DN50/DN50
CMS 2000/20	30,000	4,900	40	45	DN80/DN65
CMS 2000/30	60,000	2,850	40	75	DN150/DN125
CMS 2000/50	100,000	2,000	40	160	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到#大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和#终产品的要求。
3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，bi须提供准确的参数，以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数yi提供的实物为准。
5  本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。