光催化除臭设备
￥19200.00
19200
广东东莞
光催化除臭设备简介：
光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用，光催化除臭设备，光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O。UV光催化设备是目前工业废气处理技术中先进的技术之一，UV光催化设备的开发充分考虑了工业废气性质的不确定性和复杂性，从工程的设计、配套、安装、调试、维护等方面提供了很大的可行性、可靠性、灵活性、有效性。
光催化除臭设备主要工艺段技术原理：
众所周知，紫外线是由电磁波组成，其本身所带有的能量与波长直接有关，波长越短，能量越大。通过采用D波段内的真空紫外线（波长范围170~184.9nm），照射有机气体或恶臭气体分子，当这些气体分子吸收了这类紫外线光后，因紫外线光本身所带有的能量，使有机气体或恶臭气体分子内部发生裂解，化学键断裂，形成游离状态的原子或基团（C*、H*、O*等）。同时，混合气体中的氧气被紫外线光裂解形成游离的氧原子并结合生成臭氧【UVO2→O-O*(活性氧)O*O2→O3(臭氧)】；混合气体中的水蒸气被紫外线光裂解产生羟基【UVH2O→HOH-(羟基)】，而这些生成的臭氧和羟基具有极强的氧化性，可将废气分子裂解产生的原子和基团（甚至是有机气体或恶臭气体分子）氧化成H2O和CO2等无污染的低分子化合物。另外，利用高能紫外线光束可裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀菌的目的。光催化除臭设备
| 加工定制： | 是 |
| 品牌： | 杉盛 |
| 型号： | SSUV-10K |
| 处理浓度： | 1000 mg/l |
| 处理风量： | 10000 m3/h |
| 启燃温度： | 100 ℃ |
| 空速： | 3-4m/s |
| 适用领域： | 废气除臭 |
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