这些微型电子产品用的铬薄膜蚀刻剂对阳性和阴性光刻胶都有良好匹配性。用它们可以帮助刻制细线条，下蚀现象*低。0.2微米过滤的高纯方剂是关键装置制备的需要的理想产品。
 
铬蚀刻剂1020
 
低下蚀高蚀刻速率
 
铬蚀刻剂1020AC
 
用低蚀刻速度可达到低下蚀广匹配性的效果
 
铬蚀刻剂CRE-473
 
与铜、镍、金和钼膜相匹配
 
铬光掩膜蚀刻剂
 
是理想的高精密度光掩膜蚀刻剂
 
铬金属陶瓷蚀刻剂
 
用于铬—硅膜蚀刻
 
特点
 
· 高纯度
   · 0.2微米过滤品
   · 与光刻胶有良好匹配性
   · 蚀刻速率和图案均匀
  
铬蚀刻剂1020和1020AC
 
说明
Transene铬蚀刻剂1020和1020AC是高纯高铈铬硝酸盐体系，可以用来精密清晰地蚀刻铬和氧化铬膜。铬蚀刻剂1020AC不含硝酸，蚀刻速率较低。这两种蚀刻剂和阴、阳性光刻胶都有良好的匹配性。铬蚀刻剂1020已经通过过滤去除了所有大于0.2微米的颗粒。铬蚀刻剂1020AC的边下蚀现象*微。
 
性质
 

	1020	1020AC
外观	澄清，橙色	澄清，橙色
比重	1.127—1.130	1.127—1.130
过滤	0.2微米	-------
操作温度	可变	可变
蚀刻速率，40℃	40 Å/秒	32 Å/秒
贮存	室温	室温
冲洗	去离子水	去离子水

 
应用
蚀刻速率依膜厚度不同而改变。在室温下，蚀刻时间为15-60秒。铬蚀刻剂要在良好通风橱中操作。
 
铬蚀刻剂CRE-473
 
说明