进口EM PMMA 电子束光刻胶495K 0.1-1

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福建厦门

厦门芯磊贸易有限公司

2年

指数：50

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产品参数

厦门光刻胶美国光刻胶

‌涂覆方式‌：旋涂法为主，需控制转速以获得均匀膜厚‌
‌显影液‌：常用丙酮或异丙醇/水混合溶液（正胶特性）
‌耐温性‌：长期使用温度≤80℃，热膨胀系数较高‌

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‌纳米结构加工‌：用于制作50-100nm线宽的金属电极（如T-Gate剥离工艺）
‌多层光刻‌：常与950K PMMA组成四层光刻胶堆栈（EL-6-PMMA 950K-LOR 5B-PMMA 495K）‌

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‌微机械结构‌：硅基MEMS器件的金属剥离工艺‌
‌量子器件‌：超导量子电路中的约瑟夫森结加工‌

品牌：	进口
型号：	495K 0.1-1

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