原料药湿法粉碎机,又被成为原料药胶磨机,或者原料药研磨分散机,特别适合于需要研磨、分散、均质一步到位的物料。IKN湿法粉碎机是将三级高剪切均质乳化机进行改装,将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头间隙可调。
原料药湿法粉碎机,为医药卫生级湿法研磨设备,标准配置所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢。 特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷。 李佩佩
原料药湿法粉碎机是由胶磨机,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下浅的齿列结构,相较沟槽是直线,同级的沟槽深度一样的磨头,可以保证物 料从上往下一直在进行研磨。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。分散头的转子定子结构符合流体力学的线性结构。在转动时流体是切线方向甩开。
CMD2000系列研磨分散机的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
型号 |
流量 L/H |
转速 rpm |
线速度 m/s |
功率 kw |
入/出口连接 DN |
|
|
CMD2000/4 |
300 |
9000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
|
|
CMD2000/5 |
1000 |
6000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
|
|
CMD2000/10 |
2000 |
4200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
|
|
CMD2000/20 |
5000 |
2850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
|
CMD2000/30 |
8000 |
1420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
|
|
CMD2000/50 |
15000 |
1100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
|
|
|
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。 |
CMD2000系列设备选型表
1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2.处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。
3.如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4.本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准.
医药中间体湿法粉碎机,原料药湿法粉碎机,超细湿法粉碎机,10000转超细高速粉碎机
品牌: | ikn |
型号: | CMSD2000 |
单次产量: | 1000 kg/h |
粉碎细读: | 100000 目 |
电压: | 380 V/Hz |
转速: | 10500 r/min |
重量: | 400 kg |
体积: | 1000 m3 |