







研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或冲击力(impactforce)将粉体由大颗粒粉碎剥离成小颗粒。
分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒完全被分离(separating)、润湿(wetting)、分布(distributing)均匀及稳定(stabilization)目的。
研磨:利用剪切力、摩擦力或冲击力(将粉体由大颗粒粉碎剥离成小颗粒。
分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒完全被分离、润湿,分布均匀及稳定目的。
分散是实现先进碳材料应用的重要前提之一,对于石墨烯类材料尤为重要,一方面,石墨烯神奇的性能是纯石墨烯单片尺度上的性能,聚集或不适当改性的石墨烯部分或全部失去了那些神奇的性能;另一方面,制备工艺过程对可操作性、可加工性(如旋图)要求将石墨烯分散在水或有机溶剂中。
而由于π-π耦合、范德华力和高比表面积,石墨烯会发生不可逆的团聚现象,甚至重新排列回石墨结构,导致制备石墨烯的稳定分散十分困难,目前来看,石墨烯的分散还有很多基本问题有待解决。
一、石墨烯分散是实现产业化的必经之路
石墨烯产业化应用研究逻辑进程
如上所示,石墨烯产业化必须要解决两个基本问题:
一是石墨烯的制备技术,即在合理价格得到具有接近理论性质的石墨烯产品,现今石墨烯工业化产品性能参差不齐,远达不到理论水平;
二是石墨烯的分散技术,即不损害石墨烯结构与性能的高度分散方法。
只有上述两个问题得到有效解决,石墨烯价值才能在商业上实现。
二、 石墨烯分散需要解决六大基本问题
Ø 石墨烯分散的挑战性首先源于对石墨烯深度分散的必然要求,将石墨烯分散到单片或初级粒子状态;
Ø 源于石墨烯对通过化学改性实现分散这一手段的低容忍性甚至抵触性;化学改性,势必干扰或一定程度上破坏π-π的完整性,从而降低或失去本征态石墨烯的优异性能;
Ø 源于石墨烯本身既不亲水又不亲油的结构特征;一般的分散剂分子又较难与石墨烯形成较强的物理吸附作用,所以使用表面活性分散石墨烯的物理手段也将受限;
Ø 源于石墨烯的π-π结构和强的范德华力,使石墨烯极易团聚,而且团聚体难以再分开;
Ø 还源于石墨烯极高的长径比和比表面积;
Ø 石墨烯的分散还面临着实际生产操作性方面的难题。例如,4%浓度的水型石墨烯浆料已是膏态,不具有流动性,这为生产过程中物料传输、分散和化学反应造成了困难。
| 细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。 *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。 第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。 CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、 电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ 电机选配件: PTC 热保护、降噪型 研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷 研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车 研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理 进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍 研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。
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| 型号: | CMSD2000 |
| 品牌: | IKN |
| 工作方式: | 颗粒研磨机 |
| 适用物料: | 膨胀石墨蠕虫 |
| 应用领域: | 化工 |
| 加工批量: | 100 |
| 驱动功率: | 11 kw |
| 研磨篮容量: | 100 |