半导体性单壁碳纳米管溶液研磨用高速大小型分散机作为一维纳米材料，重量轻，结构连接完美，具有许多异常的力学、电学和化学性能。近些年随着碳纳米管及纳米材料研究的深入其广阔的应用前景也不断地展现出来。

　　半导体性单壁碳纳米管溶液性质

　　直径:1.2nm-1.7nm

　　长度:300nm-5μm

　　金属杂质:

　　无定型碳:1-5%

　　半导体性单壁碳纳米管溶液应用

　　复合材料，电子器件，荧光标记

　　半导体性单壁碳纳米管溶液研磨分散机，碳纳米管研磨分散设备，管线式研磨分散机，高速研磨分散机

　　半导体性单壁碳纳米管溶液制备难点

　　目前制备碳纳米管的方法很多,然而这些方法所制得的产物中除碳纳米管外常常还含有无定形碳、碳纳米粒子及催化剂颗粒等杂质,这些杂质的存在直接影响到碳纳米管的性能测试及其应用研究,因此碳纳米管的纯化研究十分必要与重要。而不同制备方法所得碳纳米管的性质以及所引入的杂质都不相同,这就增加了碳纳米管纯化研究的难度。上海依肯公司结合该领域研究前沿对碳纳米管的制备方法做了深入研究，根据以往实验经验推荐使用IKN碳纳米管溶液研磨分散机。

　　半导体性单壁碳纳米管溶液研磨分散机设备介绍:

　　IKN研磨分散机在碳纳米管导分散中有着突出的优势，IKN研磨分散机是将研磨机和分散机合二为一的设备，先研磨后分散，可以将碳纳米管充分、均匀的分散到溶剂或树脂当中，避免团聚，分散更均匀、稳定。

　　半导体性单壁碳纳米管溶液研磨分散机是胶体磨（研磨机）和分散机组合而成的高科技产品。

　　第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

　　研磨分散设备在设计上的突出特点:

　　1、转速14000rpm相较其它厂家2900转左右高出约4-5倍:

　　2、磨头结构更精密并有独特设计,使之研磨作用力更大，效果更好。

　　3、德国进口双端面机械密封拥有独特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

　　4、CMD2000/4中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同，中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到*低。

　　研磨分散机设备的技术参数:

　　型号 流量L/H 转速rpm 线速度m/s 功率kw 入/出口连接DN

　　CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15

　　CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32

　　CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65

　　CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65

　　CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125

　　CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

　　流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

　　1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。 

　　2.处理量取决于物料的粘度，稠度和*终产品的要求。

　　3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

　　4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.