







依托红霉素混悬液高剪切纳米高速均质机是为了实现互不相溶相的分散,强力粉碎并混合其粒子。粉碎意味着克服表面张力的阻力来形成新表面。分散过程传递所需的能量,并两相均质混合。分散的长期稳定性会受到确切粒度分布及乳化剂和稳定剂使用的影响。
分散性是指活性组分粒子悬浮于分散介质中保持分散成微粒个体粒子的能力。分散性与悬浮性有密切关系。分散性好,一般悬浮性就好
影响分散性的主要因素是活性组分和分散剂的种类和用量
活性组分粒子有足够的细度,活性组分粒子越大,越易加速沉降,破坏分散性
活性组分粒子越小,粒子表面的自由能就越大,越易受范德华引力的作用,相互吸引发生团聚现象而加速沉降,因而也降低了悬浮性
要提高活性组分粒子在悬浮液中的分散性,除了要足够的细度外,重要的是克服团聚现象,主要办法是加入分散剂。
混悬剂的质量要求
有效含量(生产控制必测指标)
细度(生产控制必测指标)
悬浮性(生产控制必测指标)
pH值(生产控制必测指标)


分散性
粘度
流动性
发泡性
贮存稳定性
提供转子-定子机械装置来确保的分散效果、良好的清洁度和较长运行寿命。凭借这几项特点和易维护设计,转子-定子机械装置实现满意的成本/售价比。 转子-定子系统进行分散的过程中,粉碎有效能量经特定转动件导入。IKN提供:
EDL单级分散
ER三级分散
CM胶体磨分散
CMSD胶体磨和分散合二为一
连续式固液混合机(PLC型)分散 CM-ER
固液混合机(PLD、EBI型)浓缩过程中分散
依托红霉素混悬液高剪切纳米高速均质机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第er级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,te别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征dou能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出#终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
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研磨分散机 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
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类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
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300 |
14,000 |
41 |
4 |
DN25/DN15 |
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CMSD 2000/5 |
1000 |
10,500 |
41 |
11 |
DN40/DN32 |
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CMSD 2000/10 |
4000 |
7,200 |
41 |
30 |
DN80/DN65 |
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CMSD 2000/20 |
10000 |
4,900 |
41 |
45 |
DN80/DN65 |
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CMSD 2000/30 |
20000 |
2,850 |
41 |
90 |
DN150/DN125 |
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CMSD2000/50 |
60000 |
1,100 |
41 |
160 |
DN200/DN150 |
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*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到#大允许量的10%。 |
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1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和#终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,bi须提供准确的参数,以便选型和定制。
| 品牌: | 德国IKN |
| 应用领域: | 医药 |
| 物料类型: | 液-液 |
| 适用物料: | 混悬液 乳液 |
| 动力类型: | 电动 |
| 型号: | ERS2000 |
| 每次处理量范围: | 101-500kg |
| 适用场所: | 工业用 |