CIF粉体等离子清洗机|真空等离子表面处理|粉体灰化

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产品参数

产品型号：
CPCP3/CPCP3Plus
CPCP系列是一款专为处理粉体如粉末、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题，同时可实现常规等离子清洗。
一、应用领域
等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的。
二、粉体等离子清洗机原理
粉体等离子清洗机就是在常规等离子清洗机真空腔内，放置可旋转并带搅拌的样品瓶，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，作用在样品瓶内粉体样品上，通过等离子体轰击被清洗粉体材料表面，改变材料表面性质，优化材料表面性能。
等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理、化学性质，在保持粉体材料原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。主要应用以下四大领域：
1.无机粉体材料的表面处理：目的是为了抑制粉体团聚，提高其在聚合物中的分散性和相容性。通过对无机粉体进行表面处理，可以显著改善粉体与聚合物复合材料的力学、光学、电学等性能。例如，通过聚合性单体和引发气体的混合放电，等离子体可在粉体表面引发聚合反应，形成改性覆层，从而提升材料的综合性能。
2.有机粉体材料的表面改性处理：等离子处理可用于改善有机聚合物粉体材料的表面性能。通过使用放电气体如氩（Ar）、氦（He）、氧气（O2）、氮气（N2）或空气等，可以在不损害粉体材料内部结构的前提下，在其表面引入活性官能团，增加亲水性，这对于粉体的后续加工和应用至关重要。
3.聚合物粉体材料的表面键能调整：由于聚合物粉体通常具有比无机粉体更弱的表面键能，因此更易受到等离子处理的影响。处理时间和等离子体强度的控制对于获得理想的处理效果尤为重要。通过等离子处理，可以改善粉体表面的润湿性，提高其与粘结剂或其他材料的粘接强度，同时去除表面的有机污染物。
4.等离子表面处理在粉体材料表面功能化中的应用：等离子体表面处理技术可以实现粉体材料表面的功能化，如在表面接枝、交联、包覆等处理过程中，等离子体产生的活性粒子能够与粉体表面发生反应，引入新的官能团或改变表面结构，从而赋予粉体材料新的表面特性。
综上所述，等离子体处理粉体材料是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，不仅改善了粉体材料的表面性能，而且提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。
三、技术参数

型号	CPCP3	CPCP3plus
舱体尺寸	D200XΦ155mm	D200XΦ155mm
舱体容积	3.8L	3.8L
舱体材质	不锈钢或者石英玻璃可选	不锈钢或者石英玻璃可选
石英转瓶尺寸	Φ75xH120mm	Φ75xH120mm
转瓶转速	0-100rpm可调	0-100rpm可调
射频电源	40KHz	13.56MHz
射频功率	0-600W可调	0-150W可调
匹配器	自动匹配	自动匹配
激发方式	电容式或电感式	电容式或电感式
气体控制	双浮子流量计	双浮子流量计
时间设定	9999秒	9999秒
真空泵	抽速4m³/h	抽速4m³/h
气体稳定时间	1分钟	1分钟
真空度	100pa以内	100pa以内
电源	AC220V 50/60Hz 666/316W	AC220V 50/60Hz 666/316W
产品尺寸	L425xW420xH465mm	L425xW420xH465mm
包装尺寸	L560xW545xH730mm	L560xW545xH730mm
整机重量	32kg	32kg

加工定制：	是
品牌：	CIF
型号：	CPCP3/CPCP3Plus
工作频率：	40 KHz
工作电压：	220 v
功率：	0-300 W无极可调 w