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多功能真空热蒸发镀膜机
350000.00
北京大兴区
北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司
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技术指标:
1. 真空室的极限真空度达5*10-5pa,漏率为关机12小时≤5pa
2. 真空腔内配有集约样品台一套,配有大挡板和16套小挡板,手动
控制,开关方便快捷,每个小挡板挡两块30*30mm样片
  1. 蒸发源共14套,其中10套有机蒸发源,4套金属蒸发源。控温
精度±1℃,可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能
  1. 金属蒸发源配4台一带一1000W可控硅调压电源,通过铜电极
连接,两端可夹钨绞丝或者钽舟,钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒
材料,钽舟可以蒸镀粉末状材料,蒸发源采用陶瓷全密封,避免交
叉污染
  1. 有机蒸发源配10台一带一温控电源,有机源温度为室温-500度,
可以根据材料及用户需求自行调节
  1. 样品台具有旋转、升降功能,可在线更换掩膜板一次,可同时装
30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板,
并且通过PLC控制步进电机对每个小挡板做16个定位,使机械手
推拉小挡板,样品与蒸发源之间的间距为200-300mm
品牌:wayes-vac
型号:EV-400F
加工定制:
适用范围:10-5Pa
电镀电源:直流电源
镀膜材质:金属/有机物
镀膜原理:热蒸镀
镀种:硅片
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