一、 EDI电子工业超纯水设备
的特点
反渗透+EDI超纯水系统工艺通常由多介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统;由RO反渗透主机系统、EDI电除盐系统构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置;并备有在线水质检测控制仪表,电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人值守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使该设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
当今社会,物价上涨,资源缺乏,对资源的利用率,对降耗减排的要求越来越高,在水处理行业,经过几十年的发展,由*初的阴阳混床工艺发展到RO反渗透,再到EDI电去离子的发明,到2005年,经过长期的研发,本公司发明了当代*先进的二级EDI工艺,从此成为水处理行业的又一次飞跃。二级EDI的先进性及其实用性,已逐步在国内水处理得到认可!为了让二级EDI在国内水处理上占有更广阔的市场,本公司对一级EDI与二级EDI的差别进行了详细的分析,并用实际数据去论述二级EDI的先进性。
经过具体的分析比较,明显可以看出,当今纯水超纯水工艺中普遍采用的二级RO+一级EDI工艺并不是当代*先进的纯水超纯水工艺,由本公司发明的一级RO+二级EDI工艺比现普遍采用的二级RO+一级EDI工艺更先进,更具优势,它在与二级RO+一级EDI工艺有相同运行费用的同时,省去了大量一次性的投资费用,节约了设备占地面积,每年节约大量的运行费用。
二级EDI膜堆比一级EDI膜堆具有更强的抗变能力,稳定性更高的产品水。一级RO产水无法满足一级EDI的进水要求,因此一级EDI进水水质要求较高,一旦进水超过EDI电去离子负荷,一级EDI就难以保证产水水质达到用水标准。如一级EDI负荷过重,将导致EDI膜堆产水水质迅速下降,*后报废。而二级EDI膜堆即使在一级EDI产水难以达到用水要求的情况下,仍能产出达到用水标准的超纯水,且产品水水质更稳定,水质标准更高。二级EDI受一级RO膜脱盐性能影响不大,其进水门槛较低,可延长一级RO膜的使用期限,并且减少RO膜的更换费用。
使用一级RO+二级EDI工艺,省去了二级RO设备,节约了该部分设备投资,同时提高了系统的回收率,是降耗减排、节约能源的首选目标!
二、超纯水设备的特点和要求
在现代电子工业高速发展的今天,工业生产对用水的要求也非常高。如半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路等行业就需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
三、反渗透+EDI系统几种常用的工艺
1、1级反渗透+1级EDI系统工艺;
2、2级反渗透+2级EDI系统工艺;
3、1级反渗透+2级EDI系统工艺;
4、2级反渗透+2级EDI系统工艺。
四、反渗透+EDI系统特点
1、产水水质高而稳定。
2、连续不间断制水,不因再生而停机。
3、无需化学药剂再生。
4、设想周到的堆栈式设计,占地面积小。
5、操作简单、安全。
6、运行费用及维修成本低。
7、无酸碱储备及运输费用。
8、全自动运行,无需专人看护 。
五、反渗透+EDI超纯水设备系统的应用领域
1、电厂化学水处理;
2、电子、半导体、精密机械行业超纯水;
3、制药工业工艺用水;
4、食品、饮料、饮用水的制备;
5、海水、苦咸水的淡化;
6、精细化工、精尖学科用水;
7、其它行业所需的高纯水制备。
加工定制: | 是 |
品牌: | 普洛尔 |
型号: | PRO-YM6000GP |
出水口径: | 25 mm |
产水量: | 0.5-50T/H |
工作压力: | 1-1.5 Mpa |