纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻,钝化和外延等工艺的重要材料,也可用于金属冶炼,光导通讯和科学研究等领域。随着大规模集成电路的发展,对氯化氢纯度的要求越来越高,对其中杂质的含量要求越来越苛刻,尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量,以防止硅片加工过程中C的形成。
若含氧量过高,不仅对铁炉生产造成安全隐患,而且在合成、精馏、聚合等后续工序产生诸多不良后果,严重影响产品质量。因此氯化氢中含氧量是一项需要认真检测并加以严格控制的工艺指标。
目前,氯化氢气体中含氧量的分析大多采用燃烧法,也有少数采用化学吸收法的,浩瀚色谱(山东)应用技术开发有限公司
根据生产的需要,研制氯化氢中氧氮含量的切割-反吹GCplus防腐气相色谱分析法,取得了满意的结果。
Haohan GC System 气相色谱仪
现代实验室始终面临各种各样的实际问题,需要采用切实可行的方法予以解决。处理复杂样品基质、保持数据完整性以及满足用户培训需求等问题可能导致大量的时间和资源浪费。
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Haohan GC System 气相色谱仪详情:
1. 工作条件
1.1. 温度: 5°C -- 35°C
1.2. 湿度:5 – 85%
1.3. 电源:AC 220±10%;50±0.5Hz
2. 柱温箱
2.1. 温度:室温5°C -- 400°C
2.2. 程序升温:7阶程升,可扩充16阶
2.3. 在5min内,从400°C降温到50°C
2.4. 温度精度:室温每波动1°C ,柱温箱的温度波动<0.1°C
2.5. 双通道柱流失补偿