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屏蔽涂层光刻胶节省原料喷涂均匀KMPR系列
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福建厦门
厦门良厦贸易有限公司
2年 | 指数:50 | 工商已认证
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售卖地区
全球
公司保障
实力雄厚
是否进口

是否支持加工定制

有效成分含量15、AZ 底部防反射涂层材料:AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES
16、AZ RELACS 涂布材料,AZ R200 & R500 涂布材料
17、AZ 8100 系列光刻胶:AZ 8112和AZ8100DB5
18、辅助化学品系列:AZ 300MIF显影液、AZ 600MIF显影液、AZ 400K显影液和AZ 303N显影液
19、清洗液/ 稀释液:AZ EB
99
发货周期
现货
生产地址
国产、美国、瑞士、日本
特点
具有高深宽比,光刻后可以达到非常好的陡直度,基本垂 直于衬底表面。
使用场景
正性光刻胶,广泛应用于半导体制造
资质
齐全
型号:KMPR系列
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