LOR系列半导体芯片光刻胶剥离液操作便捷AZ 5218E
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福建厦门
品质保障
质量过硬
产品类型
标准品
特点
具有高深宽比,光刻后可以达到非常好的陡直度,基本垂 直于衬底表面。
货源
充足
用途范围
工业15、AZ 底部防反射涂层材料:AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES
16、AZ RELACS 涂布材料,AZ R200 & R500 涂布材料
17、AZ 8100 系列光刻胶:AZ 8112和AZ8100DB5
18、辅助化学品系列:AZ 300MIF显影液、AZ 600MIF显影液、AZ 400K显影液和AZ 303N显影液
19、清洗液/ 稀释液:AZ EBR7030和AZ 5200Thinner(1500Thinner)
20、HMDS:AZ AD PROMOTOR
21、辅助化学品系列:正型光刻胶剥离液(胺型)AZ Remover 100和AZ Remover 200,正型光刻胶剥离液(溶剂型)AZ Remover 700、AZ 400T Stripper(也
公司保障
实力雄厚
价格
透明
存储条件
低温
售卖地区
全球