特点
具有高深宽比，光刻后可以达到非常好的陡直度，基本垂 直于衬底表面。
响应速度
快
服务

使用场景
正性光刻胶，广泛应用于半导体制造
产品等级6、AZ MIR-700 系列中高解像度I线正型光刻胶：AZ MIR-701和AZ MIR-703
7、AZ MIR900 系列厚膜高解像度高感光度I线正型光刻胶：AZ MIR-900和AZ MIR-950
8、AZ DX3200P 系列应用于通孔图形的KrF正型光刻胶：AZ DX3200P
9、AZ DX5200P 系列应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶：AZ DX2546P和AZ DX5200P
10、AZ P4000 系列超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶AZ P4210 、AZ P4330、AZ P4400、AZ P4620 和AZ P4903
11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶：AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶：AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于
优级纯GR
加工定制
是
有效成分含量
99
生产地址
国产、美国、瑞士、日本
用途范围
工业