| 品牌 | 产地 | 型号 | 特性 | 应用 | 对生产力的影响 | ||||||||||
| Futurrex | 美国 | RD3 | 碱性水溶液 | 光胶图案显影 Futurrex临时粘层、 保护层和平坦化层的 去除 |
一种显影液可同时应用于 正胶和负胶在去除PC3系列 平坦化层时作为去除剂 |
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| RD6 | |||||||||||||||
| Micro Resist | 德国 | ma~D332S | 避免接触酸 和氧化剂 |
用于半导体芯片 或微纳结构制作 |
用于光刻胶的显影 | ||||||||||
| ma-D332 | |||||||||||||||
| mr~Dev600 | |||||||||||||||
| 去胶液 | 1 |
| 品牌 | 产地 | 型号 | 性质 | 应用 | 对生产力的影响 | ||||||||||
| Futurrex | 美国 | PR3 | 液体 | 去除加工完成后的光胶图案 | 缩短去除光胶的时间 | ||||||||||
| PR4 | |||||||||||||||
| PR41 | |||||||||||||||
| PR5 | |||||||||||||||
| Micro Resist | 德国 | mr-Rem 660 | |||||||||||||
| 型号: | ma~D332S |