1. • 在g-line（436nm）、h-line（405nm）、i-line（365nm）波段均保持高灵敏度，无需更换光刻胶即可兼容多型号曝光设备。
2. ‌高分辨率与陡直度‌
   • 分辨率达亚微米级（0.3μm），侧壁陡直角≥88°，满足高精度微结构加工（如MEMS、IC封装）。
3. ‌工艺宽容度高‌
   • 支持宽范围膜厚控制（0.5-3μm），旋涂速度与粘度关联性稳定，良品率≥95%。
4. ‌环境稳定性‌
   • 25℃避光环境下保质期12个月，冷藏（0-5℃）可延长至18个月。

‌典型应用场景‌