进口耐高温300℃正性光刻胶CJ2139
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
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- 兼容300℃后烘工艺(如Polyimide固化、金属合金退火)
- 图形结构在高温下无流变、无龟裂
- 抗离子注入损伤
- 在高剂量离子注入(≥1×10¹⁵ ions/cm²)后保持图形完整性
- 耐化学性
- 耐受强酸(H₂SO₄/H₂O₂)、强碱(KOH)及有机溶剂清洗
四、典型应用场景
| 领域 |
应用案例 |
| MEMS器件 |
高温传感器结构、微机械悬臂梁图形化 |
| 功率半导体 |
IGBT/SiC器件栅极刻蚀掩模 |
| 先进封装 |
硅通孔(TSV)侧壁隔离层光刻 |
| 高温薄膜电路 |
陶瓷基板上的金属布线图形制作 |
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