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进口耐高温300℃正性光刻胶CJ2139
20000.00
福建厦门
厦门芯磊贸易有限公司
2年 | 指数:50 | 工商已认证
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  • 产品参数
厦门光刻胶     美国光刻胶
    • 兼容‌300℃后烘工艺‌(如Polyimide固化、金属合金退火)
    • 图形结构在高温下‌无流变、无龟裂
  1. 抗离子注入损伤
    • 在‌高剂量离子注入‌(≥1×10¹⁵ ions/cm²)后保持图形完整性
  2. 耐化学性
    • 耐受强酸(H₂SO₄/H₂O₂)、强碱(KOH)及有机溶剂清洗

四、典型应用场景

领域 应用案例
MEMS器件 高温传感器结构、微机械悬臂梁图形化
功率半导体 IGBT/SiC器件栅极刻蚀掩模
先进封装 硅通孔(TSV)侧壁隔离层光刻
高温薄膜电路 陶瓷基板上的金属布线图形制作
品牌:进口
型号:CJ2139
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