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进口单层Lift-off正性光刻胶 CJ2153
8000.00
福建厦门
厦门芯磊贸易有限公司
2年 | 指数:50 | 工商已认证
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厦门光刻胶    美国光刻胶
    • GaAs/GaN HEMT栅极、射频电极制备。
  1. MEMS传感器
    • 悬臂梁、谐振腔金属结构(避免湿法腐蚀损伤微结构)。
  2. 高频器件互连
    • 微波传输线、天线阵列的剥离成形(线宽≤1μm)。
  3. 研发与小批量生产
    • 工艺简化显著降低试错成本。

与其他Lift-off胶对比

型号 结构 分辨率 工艺复杂度 适用场景
CJ2153 单层 ≤0.8μm ★☆☆☆☆ (低) 快速原型、中小批量
LOR双层胶 双层 ≤0.5μm ★★★☆☆ (中) 超精细图形(<0.5μm)
PMMA电子束胶 单层 ≤10nm ★★★★☆ (高) 纳米器件(需电子束曝光)
品牌:进口
型号:CJ2153
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