进口双层Lift-off底层胶 CJ2350
¥3000.00
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
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- 涂覆底层胶:
- CJ2350旋涂(转速3000-4000rpm,厚度≈0.5~1μm)
- 软烘(90-110℃/60s)
- 涂覆顶层胶:
- 正胶(如AZ5214)旋涂(厚度≈1.2μm)
- 前烘(100℃/90s)
- 曝光显影:
- 紫外曝光(波长365nm,剂量80~120mJ/cm²)
- 显影液(如AZ400K)溶解顶层胶区域
- 刻蚀底层胶:
- O₂等离子体干法刻蚀(功率100W,时间30-60s),形成倒梯形结构
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