• 化学类型‌：主链断裂型正性电子束光刻胶
• ‌工作原理‌：通过电子束切断聚合物主链实现溶解差异
• ‌分辨率‌：可达10纳米级别(实际分辨率取决于设备性能)
• ‌适用厚度‌：覆盖50纳米至1000纳米范围(不同型号对应不同*佳厚度)

技术参数

应用领域

1. ‌纳米电子器件‌：

   • 量子点结构制备
   • 纳米线图案化
   • 二维材料器件加工

2. ‌光学元件‌：

   • 纳米光栅制作
   • 超表面结构加工
   • 波导器件制备

3. ‌科研应用‌：

   • 实验室原型开发
   • 微纳结构研究
   • 新型材料表征

4. ‌特殊工艺‌：

   • T-gate制造
   • 晶圆减薄保护层
   • 临时晶圆接合