进口高温正性 PBO-806 series
¥20000.00
20000
福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
| 可耐受140℃高温烘烤 |
| 分辨率 |
亚微米级线宽 |
| 显影液 |
四甲基氢氧化铵碱性溶液 |
| 附着力 |
对氧化硅、多晶硅及多种金属材料良好 |
| 感光速度 |
适用于投影曝光和分步重复曝光 |
应用领域
高温正性光刻胶主要应用于:
- 半导体制造:大规模集成电路制造中的图形转移
- 电子元器件:精密电子元件的微细图形制作
- 光学机械加工:光学元件的精密加工
- MEMS系统:微机电系统的制造
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