• 感光性能‌：优化适用于i-线和g-线紫外光刻
• ‌金属离子控制‌：金属离子浓度控制在20ppb以下
• ‌工艺宽容度‌：具有较高的工艺宽容度，适合多种应用场景

化学成分

根据光刻胶通用组成分析，SUN-1600N可能包含以下成分：

• ‌主体树脂‌：可能为酚醛树脂或聚羟基(PHOST)，占比50%-80%，决定机械性能和化学稳定性
• ‌光敏化合物‌：可能包含重氮萘醌(DNQ)类光引发剂
• ‌溶剂系统‌：采用安全溶剂体系

SUN-1600N系列纳米压印光刻胶主要应用于以下领域：

1. ‌半导体制造‌：

   • 图形化蓝宝石衬底(PSS)制造
   • 集成电路相关工艺
   • 0.35μm及以上线宽的IC制造

2. ‌微纳器件‌：

   • 微机电系统(MEMS)制造
   • 生物传感器制备
   • 微纳光学器件加工

3. ‌显示技术‌：

   • 触摸屏中的架桥层和钝化层制造
   • LCD相关工艺
   • 先进封装技术