进口耐深腐蚀负胶SUN-DeePR
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
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- 用于微电子器件的图形转移工艺
- 适用于高精度微细加工
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半导体制造:
- 用于半导体芯片的制造过程
- 特别适用于需要耐腐蚀工艺的环节
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微机械系统(MEMS):
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