进口SU-8 3000系列SU-83010
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
- MEMS制造:SU-8光刻胶广泛用于微机电系统(MEMS)的微结构制作,如悬臂梁、微流控通道等
- 光刻工艺:适用于紫外光刻(UV lithography),尤其适合需要高深宽比结构的场景
- 前烘(Soft Bake):通常在65℃和95℃分阶段进行,以去除溶剂并增强附着力
- 曝光与后烘(Post-Exposure Bake, PEB):曝光后需进行后烘以促进交联反应,具体温度和时间需根据胶层厚度调整
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