进口SU-8 3000系列SU-83025
¥20000.00
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
- 光敏范围:365-400nm近紫外光,吸光度低(约46%),适合高深宽比结构
- 厚度能力:单次旋涂可达几百微米,多次旋涂可扩展至毫米级
- 分辨率:支持亚微米级图形(具体数值未明确,但SU-8系列普遍可达0.5μm)
- 机械性能:高交联密度,抗化学腐蚀性强,热稳定性优异(耐温达200°C)
- 垂直侧壁:曝光均匀性确保图形侧壁接近90°垂直度
- 非导电性:可直接作为电镀绝缘层使用
- 显影兼容性:支持MicroChem专用显影剂或乳酸乙酯等溶剂,显影时间需根据搅拌强度调整
| 工艺步骤 |
参数范围 |
注意事项 |
| 曝光剂量 |
10-250mJ/cm²5 |
需根据膜厚和掩模类型优化 |
| 后烘温度 |
150-200°C46 |
推荐使用加热板避免鼓风干燥箱 |
| 显影时间 |
依搅拌强度变化4 |
强烈搅拌可加速显影过程 |
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