进口SU-8 3000系列SU-83035
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
- MEMS器件:用于制作高深宽比结构,如微机械传感器和执行器
- 微流控芯片:作为永久性模具材料,用于PDMS(聚二甲基硅氧烷)复制
- 光波导:在集成光学器件中制作低损耗波导结构
- 后烘温度:约95°C,持续1-3分钟,以增强图形稳定性
- 储存条件:建议4-21°C避光保存
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