进口SML系列SML100
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
- 化学放大光刻胶:适用于高分辨率工艺(如16nm节点)
- 电子束光刻胶:用于纳米级图案直写,分辨率可达<10nm
- 特殊功能光刻胶:如耐高温、高附着力等特性
- EUV光刻胶:支持14nm以下制程,需解决金属氧化物光刻胶的图形化问题
- 绿色制造:开发低毒、可降解光刻胶材料
- 国产替代:国内企业正突破高端光刻胶技术壁垒
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