进口RE500系列电子束光刻胶RE500.20
¥20000.00
20000
福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
| 分辨率 |
<10nm(理论极限) |
支持纳米级器件加工 |
| 对比度 |
高(具体数值未公开) |
确保图形侧壁陡峭度 |
| 灵敏度 |
中等(需优化电子束剂量) |
平衡曝光速度与图形保真度 |
| 抗蚀性 |
耐等离子体刻蚀 |
适应后续刻蚀工艺需求 |
| 热稳定性 |
高温后处理兼容性(具体温度未公开) |
支持退火等后制程步骤 |
- 显影方式:正性显影(曝光部分溶解)
- 适用基材:硅片、玻璃、III-V族化合物半导体等
- 厚度范围:未明确,但电子束胶通常为50-500nm
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