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进口EM PMMA 电子束光刻胶35K 0.1-1.2
20000.00
福建厦门
厦门芯磊贸易有限公司
2年 | 指数:50 | 工商已认证
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厦门光刻胶     美国光刻胶
  • X射线光刻‌:配合同步辐射光源实现亚微米级结构
  • 混合曝光‌:与电子束光刻胶(如ZEP)双层堆叠使用

旋涂参数‌:
▸ 转速:2000-4000 rpm(胶厚1μm需3000rpm)
▸ 前烘:90-100℃/2分钟(热板)

  • 曝光剂量‌:
    ▸ 电子束:800-1200μC/cm²(加速电压20-30kV)
    ▸ 显影时间:30-60秒(MIBK=1:3,20℃)

品牌:进口
型号:35K 0.1-1.2
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