进口Dupont集团光刻胶RDP-75正胶。
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
- 光刻工艺:作为正性光刻胶,适用于高分辨率图形转移,曝光后显影溶解区域形成电路图案
- 关键优势:纳米级分辨率(未明确具体数值,参考同类正胶可达亚微米级)
- 微结构加工:用于制作传感器电极阵列,耐高温和化学刻蚀环境
- 案例:陀螺仪金电极剥离工艺,兼容三维非平面基板
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