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进口紫外光刻胶S1813 G2
20000.00
福建厦门
厦门芯磊贸易有限公司
2年 | 指数:50 | 工商已认证
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厦门光刻胶  美国光刻胶

  • 高粘附性‌:适用于硅、玻璃、金属等多种基底
  • 批次一致性‌:通过严格物理/化学测试,确保工艺稳定性‌

特性 S1813 G2 LOR3A(lift-off胶)
类型 正性光刻胶 负性光刻胶
分辨率 0.5μm 1-2μm
厚度范围 0.4-2.7μm 0.5-3μm
主要用途 直接光刻/刻蚀 专用于lift-off工艺
工艺复杂度 需显影步骤 需搭配S1813等光刻胶使用
品牌:进口
型号:S1813 G2
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