进口紫外光刻胶S1813 G2
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福建厦门
厦门光刻胶 美国光刻胶
- 高粘附性:适用于硅、玻璃、金属等多种基底
- 批次一致性:通过严格物理/化学测试,确保工艺稳定性
| 特性 |
S1813 G2 |
LOR3A(lift-off胶) |
| 类型 |
正性光刻胶 |
负性光刻胶 |
| 分辨率 |
0.5μm |
1-2μm |
| 厚度范围 |
0.4-2.7μm |
0.5-3μm |
| 主要用途 |
直接光刻/刻蚀 |
专用于lift-off工艺 |
| 工艺复杂度 |
需显影步骤 |
需搭配S1813等光刻胶使用 |
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