湿法/干法刻蚀 ▸ 制作高精度掩模(如GaN HEMT栅极) ▸ 兼容反应离子刻蚀(RIE)与湿法腐蚀
Lift-off工艺 ▸ 与底层胶(如LOR3A)配合使用 ▸ 实现金属电极剥离(Au/Cr等)