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进口S1800系列S1813 G2
20000.00
福建厦门
厦门芯磊贸易有限公司
2年 | 指数:50 | 工商已认证
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厦门光刻胶    美国光刻胶
  • 湿法/干法刻蚀
    ▸ 制作高精度掩模(如GaN HEMT栅极)
    ▸ 兼容反应离子刻蚀(RIE)与湿法腐蚀

  • Lift-off工艺
    ▸ 与底层胶(如LOR3A)配合使用
    ▸ 实现金属电极剥离(Au/Cr等)

品牌:进口
型号:S1813 G2
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